SEMICON上海邀約 | 大立先進(jìn)過濾技術(shù)護(hù)航半導(dǎo)體制造與創(chuàng)新
更新時(shí)間：2026-03-16瀏覽：123次
SEMICON
新一輪科技革命和產(chǎn)業(yè)變革加速演進(jìn)，AI加速機(jī)器人智慧化、量子科技多點(diǎn)突破、腦機(jī)接口邁入臨床應(yīng)用新階段，前沿創(chuàng)新場(chǎng)景不斷涌現(xiàn)。2025 年，我國人工智能核心產(chǎn)業(yè)規(guī)模突破1.2 萬億元，企業(yè)數(shù)量超6200 家。半導(dǎo)體作為數(shù)字經(jīng)濟(jì)與先進(jìn)制造的核心算力基石，已然成為全球科技競(jìng)爭(zhēng)與產(chǎn)業(yè)安全的關(guān)鍵戰(zhàn)略高地。
2026 年作為 “十五五” 開局之年，全國會(huì)議明確提出加快高水平科技自立自強(qiáng)，發(fā)揮新型舉國體制優(yōu)勢(shì)，全鏈條推動(dòng)集成電路等關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān)，打造新興支柱產(chǎn)業(yè)，推動(dòng)科技創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新深度融合，著力發(fā)展新質(zhì)生產(chǎn)力。
在此背景下，中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)迎來政策加持、場(chǎng)景開放、資金加碼的戰(zhàn)略機(jī)遇期，正朝著自主可控、生態(tài)完善的方向加速邁進(jìn)。
作為深耕過濾技術(shù)的創(chuàng)新型企業(yè)，大立過濾將重磅亮相SEMICON China 2026，全面展示覆蓋半導(dǎo)體核心工藝制程和使用點(diǎn)位的過濾解決方案：光刻（Litho）、濕法刻蝕與清洗（WEC）、化學(xué)機(jī)械研磨（CMP）和脫氣與溶氣等。
我們將于3 月 25 日–27 日，在上海新國際博覽中心 N2 館 2738 展位恭候您的蒞臨，與行業(yè)同仁共探先進(jìn)過濾技術(shù)，助力客戶提升產(chǎn)品良率，為半導(dǎo)體制造與創(chuàng)新保駕護(hù)航。
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大立過濾在N2-2738等候您蒞臨參觀與指導(dǎo)
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